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电子封装材料用高物理性能耐磨性氧化铝球
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产物名称:
电子封装材料用高物理性能耐磨性氧化铝球
产物型号:
TB-0.1
产物特点:
电子封装材料用高物理性能耐磨性氧化铝球易烧结性:该产物在煅烧温度为1200 - 1250℃时可达理论密度的98%以上,相比其他品牌可能需要更高温度才能达到类似密度。这一特性可降低烧结过程中的能源消耗,缩短生产周期,提高生产效率,进而降低生产成本。对于大规模生产电子陶瓷基板等产物的公司,能带来显著经济效益。
电子封装材料用高物理性能耐磨性氧化铝球
的详细介绍
电子封装材料用高物理性能耐磨性氧化铝球
电子封装材料用高物理性能耐磨性氧化铝球
高纯度
:大明化学的高纯度氧化铝球纯度可达99.99%以上,高的纯度可有效减少杂质对电子元件性能的干扰,提高电子设备的稳定性和可靠性。在半导体制造中,杂质可能导致电子迁移率变化、漏电等问题,大明化学高纯度产物能极大降低此类风险,保障产物质量。
易烧结性
:该产物在煅烧温度为1200 - 1250℃时可达理论密度的98%以上,相比其他品牌可能需要更高温度才能达到类似密度。这一特性可降低烧结过程中的能源消耗,缩短生产周期,提高生产效率,进而降低生产成本。对于大规模生产电子陶瓷基板等产物的公司,能带来显著经济效益。
物理性能
:其烧结体具有较高的强度、透光性、硬度、耐磨性和耐蚀性等优异特性。在电子封装材料中,高硬度和耐磨性可保护内部电子元件免受外界物理损伤;良好的耐蚀性能使其在复杂环境下仍能保持性能稳定,延长电子设备的使用寿命。
光学性能优势
:较高的透光性使该产物在光学陶瓷领域具有优势。对于需要透光性的陶瓷材料,如透明氧化铝陶瓷用于高压钠灯灯管等,大明化学的产物能提供更好的透光效果,同时保证材料的其他性能,如强度和耐热性,满足实际应用需求。
研磨行业应用
:在研磨行业,高纯度氧化铝球作为研磨介质应用广泛。对于其他高纯度材料的研磨,如高纯石英、光学玻璃等,高纯度氧化铝球由于自身纯度高,不会对被研磨材料造成二次污染,同时其高硬度和良好的耐磨性,能实现高效研磨,提高研磨效率和产物质量。在超精密研磨领域,对研磨介质的粒度均匀性和硬度一致性要求高,大明化学的高纯度氧化铝球可满足这些要求,确保研磨后的产物达到高精度的表面质量和尺寸精度。
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