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立式药物原料研磨混合均质双轴型球磨乳钵机

立式药物原料研磨混合均质双轴型球磨乳钵机

1. 产物定位

• 名称：样品研磨混合双轴型自动乳钵机
• 型号：ANG-200WD（2024 款）
• 用途：少量样品（≤150 g）的 研磨、粉碎、混合、均质；Wet 模式（加溶剂）／Dry 模式（干式） 一键切换
• 对象：电子材料、陶瓷粉、药物原料、化妆品颜料、食品、矿石等

1. 产物定位

• 名称：样品研磨混合双轴型自动乳钵机
• 型号：ANG-200WD（2024 款）
• 用途：少量样品（≤150 g）的 研磨、粉碎、混合、均质；Wet 模式（加溶剂）／Dry 模式（干式） 一键切换
• 对象：电子材料、陶瓷粉、药物原料、化妆品颜料、食品、矿石等

2. 双轴驱动特点（公开参数）| 轴 | 功能 | 转速 | 转向 ||---|---|---|---|| 主轴（乳钵） | 公转研磨 | 5-60 rpm（无级） | 正/反可设 || 副轴（碾槌） | 自转粉碎 | 20-240 rpm（无级） | 正/反可设 || 行星比 | 1:4（标准） | 可自定义 1:2-1:6 | 软件设定 |

3. 核心规格| 项目 | ANG-200WD ||---|---|| 乳钵容量 | 200 mL（玛瑙／氧化锆／PTFE／不锈钢可选） || 样品量 | 干式 10-150 g；湿式 5-100 g＋溶剂 || 碾槌材质 | 玛瑙／氧化锆／PTFE（与钵同材质） || 研磨时间 | 1-9999 s（0.1 s 步） || 驱动 | 双伺服电机 + 谐波减速机 || 噪声 | <45 dB（实验室级静音） || 尺寸 | 300 × 400 × 350 mm，22 kg || 电源 | AC 100-240 V，50/60 Hz，<200 W |

4. Wet / Dry 两用结构

• 湿式模式：加溶剂（乙醇、水、滨笔础）→ 防止氧化、降低温升；底部 PTFE 排液阀 直接过滤
• 干式模式：真空吸口（φ6 mm）→ 可接 旋转蒸发器或真空泵，0.5 kPa 下干磨（防止氧化）
• 溶剂回收瓶 内置，研磨-过滤-回收一体化

5. 软件（MixMill-WD V4 中文）① 程序段：

• 10 段转速-时间-转向组合（每段独立 Wet/Dry 标志）
  ② 数据采集：
• 实时转速、电流、温度（PT100 可选）→ CSV 自动保存
  ③ 重复调用：
• 配方一键存储，同材料下次直接调用
  ④ 安全：
• 电流过载、温度超限、钵未到位 自动停