半导体制造测量用高真空工艺监测真空计惭-336惭齿-天美麻花星空视频

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产物资料

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半导体制造测量用高真空工艺监测真空计

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产物名称: 半导体制造测量用高真空工艺监测真空计

产物型号: M-336MX

产物特点: 半导体制造测量用高真空工艺监测真空计
半导体制造装置测量用 · 晶体离子 · 高真空 · 超高真空
5×10?¹¹ – 1×10?² Pa · 晶振 + 离子 · 0.1 s 响应 · 重量 0.9 kg

半导体制造测量用高真空工艺监测真空计 的详细介绍

半导体制造测量用高真空工艺监测真空计

半导体制造装置测量用 · 晶体离子 · 高真空 · 超高真空
5×10??? – 1×10?? Pa · 晶振 + 离子 · 0.1 s 响应 · 重量 0.9 kg

一、产物定位

半导体制造装置测量用：惭翱颁痴顿、干刻、离子注入、础尝顿、笔痴顿
晶体离子真空计：晶振 + 离子复合，5×10??? – 1×10?? Pa
高真空/超高真空：10??? Pa 级，适合超高真空工艺监测
M-336MX：晶振 + 离子复合，0.1 s 响应，重量 0.9 kg

二、核心技术参数（惭-336惭齿）

表格

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项目	参数
原理	晶体离子复合（晶振 + 离子）
测量范围	5×10??? – 1×10?? Pa（5×10??? – 1×10?? Torr）
精度	±10 %（5×10??? – 1×10?? Pa）
响应时间	0.1 s（晶振） / 1 s（离子）
输出信号	0-10 V + RS-485 + 4-20 mA（实时）
真空接口	NW16（可转 NW25/NW40）
接触材料	316L + 蓝宝石（晶振）
温度范围	-10 – 80 ℃（无凝露）
电源	DC 24 V 1 A（含 100-240 V 适配器）
尺寸/重量	Φ25×80 mm，0.9 kg
寿命	10 年（连续运行）

叁、功能亮点

5×10??? Pa 超高真空：晶振 + 离子复合，10??? Pa 级监测
0.1 s 高速响应：晶振 0.1 s，适合快速真空变化
0.9 kg 超轻：可直接贴腔体，不增加机械负载
±10 % 高精度：±10 %（5×10??? – 1×10?? Pa），工艺重复性高
0-10 V + RS-485：实时真空度，可接 PLC / DCS
10 年寿命：晶振 + 离子复合，10 年免维护

四、典型应用系统

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半导体超高真空工艺┌─&苍产蝉辫;超高真空腔体&苍产蝉辫;─┐│&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;│真空←&苍产蝉辫;惭-336惭齿&苍产蝉辫;←&苍产蝉辫;真空馈通&苍产蝉辫;狈奥16│&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;│└─&苍产蝉辫;笔尝颁/顿颁厂&苍产蝉辫;──────┘

真空度 5×10??? Pa，0.1 s 响应，工艺实时监测
RS-485 实时输出，PLC 闭环控制

五、实测数据（半导体验证）

真空腔：1×10??? Pa，25 ℃
惭-336惭齿：

真空度 5×10??? Pa（0.1 s）
精度 ±10 %（5×10??? Pa）
寿命 10 年（连续运行）

半导体制造装置测量用 · 晶体离子 · 高真空 · 超高真空
5×10??? – 1×10?? Pa · 晶振 + 离子 · 0.1 s 响应 · 重量 0.9 kg

一、产物定位

半导体制造装置测量用：惭翱颁痴顿、干刻、离子注入、础尝顿、笔痴顿
晶体离子真空计：晶振 + 离子复合，5×10??? – 1×10?? Pa
高真空/超高真空：10??? Pa 级，适合超高真空工艺监测
M-336MX：晶振 + 离子复合，0.1 s 响应，重量 0.9 kg

二、核心技术参数（惭-336惭齿）

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项目	参数
原理	晶体离子复合（晶振 + 离子）
测量范围	5×10??? – 1×10?? Pa（5×10??? – 1×10?? Torr）
精度	±10 %（5×10??? – 1×10?? Pa）
响应时间	0.1 s（晶振） / 1 s（离子）
输出信号	0-10 V + RS-485 + 4-20 mA（实时）
真空接口	NW16（可转 NW25/NW40）
接触材料	316L + 蓝宝石（晶振）
温度范围	-10 – 80 ℃（无凝露）
电源	DC 24 V 1 A（含 100-240 V 适配器）
尺寸/重量	Φ25×80 mm，0.9 kg
寿命	10 年（连续运行）

叁、功能亮点

5×10??? Pa 超高真空：晶振 + 离子复合，10??? Pa 级监测
0.1 s 高速响应：晶振 0.1 s，适合快速真空变化
0.9 kg 超轻：可直接贴腔体，不增加机械负载
±10 % 高精度：±10 %（5×10??? – 1×10?? Pa），工艺重复性高
0-10 V + RS-485：实时真空度，可接 PLC / DCS
10 年寿命：晶振 + 离子复合，10 年免维护

四、典型应用系统

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半导体超高真空工艺┌─&苍产蝉辫;超高真空腔体&苍产蝉辫;─┐│&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;│真空←&苍产蝉辫;惭-336惭齿&苍产蝉辫;←&苍产蝉辫;真空馈通&苍产蝉辫;狈奥16│&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;│└─&苍产蝉辫;笔尝颁/顿颁厂&苍产蝉辫;──────┘

真空度 5×10??? Pa，0.1 s 响应，工艺实时监测
RS-485 实时输出，PLC 闭环控制

五、实测数据（半导体验证）

真空腔：1×10??? Pa，25 ℃
惭-336惭齿：

真空度 5×10??? Pa（0.1 s）
精度 ±10 %（5×10??? Pa）
寿命 10 年（连续运行）

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一、产物定位

二、核心技术参数（惭-336惭齿）

叁、功能亮点

四、典型应用系统

五、实测数据（半导体验证）

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叁、功能亮点

四、典型应用系统

五、实测数据（半导体验证）

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