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半导体小尺寸掩膜应用化工场景自动纯水装置

半导体小尺寸掩膜应用化工场景自动纯水装置

ASK 型定位

• 系列全称：Automatic Small reagent-grade water Kit ASK
• 产水等级：JIS K 0557 A5（≈ ASTM Type 1+，> 18.2 MΩ·cm，TOC ≤ 5 ppb，粒子 0.05 µm ≤ 100 个/mL）
• 结构：一次 RO → 混床精制柱 → 0.05 µm 终端囊式 → 循环回路，无再生化学排放，柱体一次性更换。
• 控制：PLC 一键自动运行，缺水、低压、超纯水质 (18.2 MΩ·cm 下 17.0 MΩ·cm 设定) 自动切换至备用旁路，带 4–20 mA 外部输出，可远程给曝光机主机“OK/NG"信号

ASK 位

• 系列全称：Automatic Small reagent-grade water Kit ASK
• 产水等级：JIS K 0557 A5（≈ ASTM Type 1+，> 18.2 MΩ·cm，TOC ≤ 5 ppb，粒子 0.05 µm ≤ 100 个/mL）
• 结构：一次 RO → 混床精制柱 → 0.05 µm 终端囊式 → 循环回路，无再生化学排放，柱体一次性更换。
• 控制：PLC 一键自动运行，缺水、低压、超纯水质 (18.2 MΩ·cm 下 17.0 MΩ·cm 设定) 自动切换至备用旁路，带 4–20 mA 外部输出，可远程给曝光机主机“OK/NG"信号

础厂碍定位

• 系列全称：Automatic Small reagent-grade water Kit ASK
• 产水等级：JIS K 0557 A5（≈ ASTM Type 1+，> 18.2 MΩ·cm，TOC ≤ 5 ppb，粒子 0.05 µm ≤ 100 个/mL）
• 结构：一次 RO → 混床精制柱 → 0.05 µm 终端囊式 → 循环回路，无再生化学排放，柱体一次性更换。
• 控制：PLC 一键自动运行，缺水、低压、超纯水质 (18.2 MΩ·cm 下 17.0 MΩ·cm 设定) 自动切换至备用旁路，带 4–20 mA 外部输出，可远程给曝光机主机“OK/NG"信号

ASK 定位

• 系列全称：Automatic Small reagent-grade water Kit ASK
• 产水等级：JIS K 0557 A5（≈ ASTM Type 1+，> 18.2 MΩ·cm，TOC ≤ 5 ppb，粒子 0.05 µm ≤ 100 个/mL）
• 结构：一次 RO → 混床精制柱 → 0.05 µm 终端囊式 → 循环回路，无再生化学排放，柱体一次性更换。
• 控制：PLC 一键自动运行，缺水、低压、超纯水质 (18.2 MΩ·cm 下 17.0 MΩ·cm 设定) 自动切换至备用旁路，带 4–20 mA 外部输出，可远程给曝光机主机“OK/NG"信号

ASK 型定位

• 系列全称：Automatic Small reagent-grade water Kit ASK
• 产水等级：JIS K 0557 A5（≈ ASTM Type 1+，> 18.2 MΩ·cm，TOC ≤ 5 ppb，粒子 0.05 µm ≤ 100 个/mL）
• 结构：一次 RO → 混床精制柱 → 0.05 µm 终端囊式 → 循环回路，无再生化学排放，柱体一次性更换。
• 控制：PLC 一键自动运行，缺水、低压、超纯水质 (18.2 MΩ·cm 下 17.0 MΩ·cm 设定) 自动切换至备用旁路，带 4–20 mA 外部输出，可远程给曝光机主机“OK/NG"信号